50亿投资打造国产光刻机厂：浙江绍兴见证中国半导体产业新突破

国外的技术封锁与制裁并未阻挡中国在光刻机技术上的前进步伐。2022年6月24日，浙江绍兴迎来了投资50亿元的国产光刻机工厂，令全球瞩目。这个被国内外誉为技术奇迹的工程，不仅展现出我国在半导体制造技术上的显著提升，也让原本居于市场主导地位的阿斯麦公司（ASML）感到压力倍增。

阿斯麦成立于1984年4月1日，当时由飞利浦与ASM合资组成，最初目的只是为了处理飞利浦淘汰的一项“前景不明”的光刻机项目。然而，经过数十年发展，阿斯麦逐渐成长为光刻机市场的龙头企业，占据世界大部分订单。近年来，阿斯麦发布了最先进的极紫外（EUV）光刻机，打破了0.2纳米工艺的技术壁垒，并实现量产。

然而，伴随着中美贸易战的展开，美国自2018年起开始大规模制裁中国的半导体公司，包括华为和中兴，限制芯片相关设备的出口。这种情况下，阿斯麦也受到美国资本的影响，参与对华制裁。但与中国市场断联对阿斯麦来说无异于自断财路，果然，今年4月，阿斯麦公布的第一季度财报显示，营收和净利润环比大幅下滑，新订单更是减少了60%。

这种局面激起了阿斯麦新任总裁克里斯托夫·富凯的公开反对，他在股东大会上直言不讳批评美国的制裁政策，认为这种行为无异于“阻止别人生产自己所需要的东西”，毫无意义。而面对这种困局，中国并未止步，反而更加坚定发展自主半导体技术的决心。

中国的半导体产业起步较晚，20世纪初期欧洲和美国在这一领域已经取得重大进展，而当时的中国却因历史原因在技术发展上落后不少。1949年新中国成立后，国家优先解决人民的生存问题，直至20世纪七八十年代，随着改革开放政策的推行，中国才开始重视科技创新。

尽管起步落后，中国依然在克服重重困难中逐步取得突破。1985年，中电科45所研制出分步式投影光刻机，但产量远不及国外公司。然而，在“造不如买”的消极想法影响下，中国光刻机市场长期被国外企业占据主导地位。2020年，国产光刻机在国内市场中的占比不到3%。

面对制裁压力，中国痛定思痛，决定在技术上实现自主突破。尤其是光刻机领域，需要从基础设备制造入手，拆解国外光刻机技术再优化生产。这类似于导弹、航母等重大工程的研发路径。当前，越来越多的留学人才，例如钱学森、钱三强以及最近回国的颜宁等，选择回国支持科技创新，为国家的发展贡献力量。而国家也通过政策提高了回国人员的福利待遇，留住科技人才。

中国市场潜力巨大，任何制裁行动对制裁国自身也是重创，同时，中国的反制措施也令其他国家倍感压力。展望未来，只要国人齐心协力，中国势必实现半导体领域的技术突破，迎来中华崛起的新篇章。